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euv 相關(guān)文章(223篇)
三星將在美國(guó)啟動(dòng)EUV專用系統(tǒng) LSI 新廠投資計(jì)劃
發(fā)表于:11/23/2020 8:17:31 PM
追趕臺(tái)積電,三星也確認(rèn)了在美設(shè)芯片廠
發(fā)表于:11/22/2020 7:49:18 AM
氮化鎵,日本加大力度研究的新一代半導(dǎo)體材料
發(fā)表于:11/19/2020 6:34:21 AM
韓國(guó)EUV光刻技術(shù)獲重大突破
發(fā)表于:11/19/2020 5:48:32 AM
全球EUV光刻專利哪家強(qiáng)?
發(fā)表于:11/17/2020 3:32:09 PM
韓國(guó)本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得重大進(jìn)展
發(fā)表于:11/16/2020 10:19:06 PM
一次13臺(tái),價(jià)值120億!臺(tái)積電再次大規(guī)模采購(gòu)EUV光刻機(jī)!
發(fā)表于:11/16/2020 2:37:25 PM
芯片產(chǎn)能供不應(yīng)求,臺(tái)積電大規(guī)模下單光刻機(jī)
發(fā)表于:11/15/2020 8:50:46 AM
EUV讓摩爾定律重獲新生 6nm 5G芯片手機(jī)明年量產(chǎn)
發(fā)表于:11/12/2020 8:50:19 PM
三星今年訂購(gòu)了9臺(tái)EUV光刻機(jī),李在镕跑ASML總部去催貨
發(fā)表于:10/25/2020 9:12:56 AM
三星掌門(mén)人李在镕案開(kāi)庭 涉嫌欺詐和操縱股價(jià) 兩周前還訪ASML與臺(tái)積電搶EUV
發(fā)表于:10/23/2020 11:44:33 PM
ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年發(fā)貨,生產(chǎn)效率提升18%
發(fā)表于:10/17/2020 8:44:08 PM
ASML全年預(yù)計(jì)出貨35臺(tái)EUV 營(yíng)收預(yù)計(jì)成長(zhǎng)兩位數(shù)
發(fā)表于:10/16/2020 9:23:54 PM
ASML光刻機(jī)能否賣(mài)給中,可以但EUV受限
發(fā)表于:10/15/2020 7:16:15 PM
遠(yuǎn)超三星, 臺(tái)積電EUV光刻機(jī)采購(gòu)將超50 臺(tái)
發(fā)表于:9/30/2020 6:26:57 AM
遙遙領(lǐng)先,臺(tái)積電將擁有超過(guò)50臺(tái)EUV光刻機(jī)
發(fā)表于:9/29/2020 10:13:18 AM
臺(tái)積電砸440億元:狂買(mǎi)世界最貴EUV光刻機(jī)
發(fā)表于:9/28/2020 3:49:38 PM
臺(tái)積電決定在臺(tái)灣 6 所大學(xué)開(kāi)設(shè) “半導(dǎo)體學(xué)程”
發(fā)表于:9/3/2020 11:30:00 PM
??臺(tái)積電買(mǎi)下市場(chǎng)上50%的EUV光刻機(jī),貢獻(xiàn)了60%的產(chǎn)能
發(fā)表于:8/28/2020 2:29:43 PM
ASML在臺(tái)灣建立首個(gè)海外EUV培訓(xùn)中心,就近指導(dǎo)臺(tái)積電工程師
發(fā)表于:8/21/2020 9:47:00 PM
ASML將在中國(guó)臺(tái)灣設(shè)立首個(gè)EUV海外培訓(xùn)中心
發(fā)表于:8/19/2020 10:15:08 AM
同樣的EUV光刻機(jī),為什么只有臺(tái)積電能實(shí)現(xiàn)高量產(chǎn)?
發(fā)表于:8/12/2020 5:24:43 PM
光刻機(jī),打破ASML壟斷還要多久?
發(fā)表于:8/6/2020 1:07:43 PM
解讀半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)趨勢(shì)
發(fā)表于:7/29/2020 4:44:00 PM
KLA推出全新突破性的電子束缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
發(fā)表于:7/21/2020 1:17:00 PM
美方在國(guó)際空間站進(jìn)行光刻實(shí)驗(yàn)?想利用Astrileux新EUV涂層捕獲太陽(yáng)EUV輻射
發(fā)表于:6/4/2020 6:49:25 PM
三星韓國(guó)第6座晶圓廠動(dòng)工!5nm EUV制程2021年投產(chǎn)
發(fā)表于:5/23/2020 6:35:51 AM
三星5nm芯片生產(chǎn)線開(kāi)建:基于EUV極紫外光刻技術(shù)
發(fā)表于:5/22/2020 11:12:39 AM
三星首推EUV工藝DRAM內(nèi)存,臺(tái)積電注意了
發(fā)表于:3/27/2020 6:00:00 AM
三星獅子大開(kāi)口欲在十年內(nèi)擊敗臺(tái)積電?加速5nm工廠建設(shè)預(yù)計(jì)年底生產(chǎn)
發(fā)表于:3/13/2020 4:35:17 PM
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