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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)“第一股”要來(lái)了?

2021-07-29
來(lái)源: 拓墣產(chǎn)業(yè)研究
關(guān)鍵詞: 國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)

  今日,華卓精科將首發(fā)上會(huì),沖刺科創(chuàng)板IPO。

  據(jù)了解,華卓精科如果能成功上市,或?qū)⒊蔀?a class="innerlink" href="http://www.ihrv.cn/tags/國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)" target="_blank">國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)第一股。

  01

  募資超7億,加碼研發(fā)

  華卓精科成立于2012年,雖被譽(yù)為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)第一股,但公司不生產(chǎn)光刻機(jī)整機(jī),而是聚焦EUV光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)。

  公司主要產(chǎn)品包括精密運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、光刻機(jī)雙工件臺(tái)模塊、靜電卡盤和隔振器等超精密測(cè)控設(shè)備部件以及晶圓級(jí)鍵合設(shè)備、激光退火設(shè)備等超精密測(cè)控設(shè)備整機(jī),以及上述部分主要產(chǎn)品的技術(shù)開(kāi)發(fā)服務(wù)。

  華卓精科本次擬發(fā)行股票不超過(guò)3200萬(wàn)股,募集資金約7.35億元,將用于半導(dǎo)體裝備關(guān)鍵零部件研發(fā)制造項(xiàng)目、超精密測(cè)控產(chǎn)品長(zhǎng)三角創(chuàng)新與研發(fā)中心建設(shè)、光刻機(jī)超精密位移測(cè)量及平面光柵測(cè)量技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目等。

  02

  中國(guó)破冰雙工件臺(tái)技術(shù)!

  光刻機(jī)有三大核心部件,EUV光源、雙工件臺(tái)、光學(xué)鏡頭。其中技術(shù)壁壘最高、制成難度最大的是雙工件臺(tái),成本占到整個(gè)光刻機(jī)成本的10%-20%。

  此前,光刻機(jī)的雙工件臺(tái)技術(shù)被荷蘭的ASML公司一手壟斷,而華卓精科攜手清華團(tuán)隊(duì)成功打破了雙工件臺(tái)技術(shù)壁壘,成為了全球第二,全國(guó)第一家掌握掌握EUV光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)的廠商,實(shí)現(xiàn)了技術(shù)、雙工件臺(tái)零部件的完全自主化生產(chǎn)。

  03

  對(duì)標(biāo)ASML,理想芯制程達(dá)7nm

  在技術(shù)水準(zhǔn)、芯片制程高度上,華卓精科的雙工件臺(tái)與ASML公司的雙工件臺(tái)基本上位于同一水準(zhǔn)。

  華卓精科與上海微電子一直保持著良好的合作關(guān)系,上海微電子28納米浸入式光刻機(jī),采用的工件臺(tái)正是華卓精科的雙工件臺(tái)。

  據(jù)悉,該工件臺(tái)最高精度可達(dá)1.7納米,適用于65納米以下的芯片制程,高速運(yùn)作下理念可行的芯片制程水準(zhǔn)達(dá)2納米。

  上海微電子28納米光刻機(jī)是浸入式光刻機(jī),因此可以通過(guò)水的多次折射縮短光波,實(shí)現(xiàn)更高精度的芯片投射,結(jié)合華卓精科的雙工件臺(tái),可以實(shí)現(xiàn)7納米芯片的自主化生產(chǎn),前提是不計(jì)較時(shí)間、勞動(dòng)、能源成本。

  04

  客戶單一,銷售規(guī)模較小

  華卓精科表示,目前公司光刻機(jī)雙工件臺(tái)產(chǎn)品客戶單一。

  目前華卓精科的光刻機(jī)雙工件臺(tái)僅有上海微電子一家客戶,并且該產(chǎn)品仍處于小批量定制生產(chǎn)階段,尚未實(shí)現(xiàn)規(guī)?;慨a(chǎn)。

  截至目前,華卓精科DWS系列光刻機(jī)雙工件臺(tái)累計(jì)發(fā)貨4臺(tái),目前仍處于與上海微電子光刻機(jī)整機(jī)集成、測(cè)試階段,尚未通過(guò)上海微電子最終驗(yàn)收。

  業(yè)績(jī)方面,2018年-2020年,華卓精科營(yíng)收分別為8570.92萬(wàn)元、1.21億元和1.52億元;凈利潤(rùn)分別為1512.36萬(wàn)元、2087.24萬(wàn)元和1242.83萬(wàn)元。

  華卓精科表示,報(bào)告期內(nèi)公司的晶圓級(jí)鍵合設(shè)備、激光退火設(shè)備和光刻機(jī)雙工件臺(tái)處于產(chǎn)品商業(yè)化初期,客戶相對(duì)較少,尚未形成規(guī)?;a(chǎn)品銷售,導(dǎo)致公司整體銷售規(guī)模較小,銷售結(jié)構(gòu)尚未穩(wěn)定,存在較大的變動(dòng)。

  



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