9 月 24 日消息，韓媒 etnews 當?shù)貢r間今日報道稱，SK 海力士計劃在未來兩年內(nèi)新購置約 20 臺 ASML 的 EUV 光刻系統(tǒng)?？紤]到 SK 海力士目前持有約 20 臺用于研發(fā)和生產(chǎn)的 EUV 機臺，這意味著這家存儲巨頭對此類設(shè)備的保有規(guī)模將在兩年內(nèi)翻倍。
在 SK 海力士的兩大業(yè)務領(lǐng)域中，內(nèi)存端的 EUV 光刻工藝早已隨著 2021 年的 1a nm DRAM 實現(xiàn)商業(yè)化，EUV 的應用規(guī)模也在隨著內(nèi)存世代演進穩(wěn)步提升。
而由于 AI 發(fā)展對企業(yè)級高性能存儲尤其是 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的 EUV 設(shè)備來擴大先進 DRAM 內(nèi)存的生產(chǎn)規(guī)模。
除目前主要應用的 Low-NA EUV 光刻機，SK 海力士本月早些時候還在存儲器業(yè)界引進了首臺量產(chǎn)型 High-NA EUV 光刻機，即 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韓國利川 M16 生產(chǎn)基地中。
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