《電子技術(shù)應(yīng)用》
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旺矽科技攜手R&S建置高精度晶圓研發(fā)測(cè)試解決方案

2015-05-11

       旺矽科技(MPI)攜手羅德史瓦茲(Rohde & Schwarz,R&S)建置高精度晶圓研發(fā)測(cè)試解決方案,其中包含了 MPI晶圓探針臺(tái)系統(tǒng)與QAlibria校正軟體,提供射頻與毫米波元件及積體電路(IC)研發(fā)人員從校正(calibration)、模擬(modelling)、設(shè)計(jì)、驗(yàn)證到除錯(cuò)等完整的晶圓研發(fā)測(cè)試解決方案;進(jìn)一步確保半導(dǎo)體元件的品質(zhì)與可靠度,避免后段制程中構(gòu)裝成本的浪費(fèi)。
       旺矽科技晶圓探針臺(tái)系統(tǒng)與TITAN新一代RF探針系列,攜手R&S建置高精度晶圓研發(fā)測(cè)試解決方案。
       旺矽科技致力于全球微電子產(chǎn)業(yè)微接觸量測(cè)技術(shù),長(zhǎng)期秉持提供先進(jìn)制程技術(shù)與優(yōu)質(zhì)客戶(hù)服務(wù)為理念。在復(fù)雜度與日俱增的奈米制程和時(shí)間與成本的雙重壓力下,晶圓的設(shè)計(jì)、測(cè)試與驗(yàn)證已成為一大挑戰(zhàn);旺矽推出全新的MPI晶圓探針臺(tái)系統(tǒng)以呼應(yīng)市場(chǎng)需求,此探針臺(tái)系統(tǒng)為兼具了易于操作與高準(zhǔn)確度的手動(dòng)測(cè)試平臺(tái),并注入多項(xiàng)獨(dú)特的設(shè)計(jì)概念。此外,旺矽攜手羅德史瓦茲(Rohde & Schwarz, R&S)打造了QAlibria校正軟體,此軟體可直接安裝于R&S ZVA 高階向量網(wǎng)路分析儀中進(jìn)行 S 參數(shù)量測(cè),將大幅提升測(cè)試準(zhǔn)確度并加速射頻電路設(shè)計(jì)。
       MPI晶圓探針臺(tái)系統(tǒng)的氣靜壓載臺(tái)設(shè)計(jì),采用了單臂氣浮式控制,大幅加速XY軸定位與晶圓裝載速度,精確度可達(dá) 25x25mm XY-Theta 微米移動(dòng)。在平臺(tái)升降的設(shè)計(jì)上,可達(dá) 1μm 的高精確度,采接觸(Contact)、分離(Separation)到裝載(Loading, 3mm)三段式設(shè)計(jì),并配備安全鎖避免意外發(fā)生造成探頭或晶圓的損壞。精巧且剛性的平臺(tái)設(shè)計(jì),最多可容納 10 個(gè) DC 或 4 個(gè) RF 微定位,滿足各種不同的應(yīng)用需求。
       MPI提供了多種晶圓載臺(tái)選擇,包括了 MPI 同軸載臺(tái)(coaxial chucks)、三軸載臺(tái)(triaxial chucks)及支援量測(cè)溫度達(dá)攝氏300度的多種ERS升溫載臺(tái)(thermal chucks),并可與熱感應(yīng)器無(wú)縫整合;RF載臺(tái)則包含了兩個(gè)內(nèi)建陶瓷材質(zhì)的輔助載臺(tái)供校正片使用,以提供準(zhǔn)確的RF校正。此外,MPI探針臺(tái)系統(tǒng)提供了多種顯微鏡調(diào)節(jié)基座的選擇,并支援達(dá) 90度傾斜或透過(guò)氣動(dòng)控制、以及線性 Z 軸升降;適用于一般 DC/CV 的應(yīng)用或 MPI SZ10 / MZ12 于 RF 的配置,甚至可以搭配如 Mitutoyo FS70 或 PSM-1000 高倍率觀測(cè)顯微鏡進(jìn)行錯(cuò)誤分析(Failure Analysis)應(yīng)用。MPI 亦提供減震底座與EMI遮蔽暗室(Dark Box)供客戶(hù)進(jìn)行選配。
       旺矽與R&S攜手打造的 MPI QAlibria免費(fèi)校正軟體,可直接安裝于R&S ZVA 高階向量網(wǎng)路分析儀中,進(jìn)行精確且可重復(fù)的 S 參數(shù)量測(cè),快速掌握元件的集膚效應(yīng)(Skin Effect)和介電損耗,精確地搜集更高階的諧波(Harmonic)頻率等測(cè)試數(shù)據(jù)。R&S ZVA支援頻率范圍達(dá) 110GHz,極高的動(dòng)態(tài)范圍與輸出功率及快速的量測(cè)速度,為毫米波頻段主動(dòng)及被動(dòng)元件量測(cè)的最佳解決方案;透過(guò)搭配 R&SR毫米波轉(zhuǎn)換器可延伸R&S ZVA頻率范圍至 500 GHz。R&SRZVA 于晶圓量測(cè)上,可同時(shí)搭配 4 個(gè)頻率轉(zhuǎn)換器進(jìn)行毫米波差動(dòng)量測(cè)。R&S ZVA 亦可執(zhí)行微波頻段之混頻器(Mixer)及脈沖量測(cè)。
       此外,旺矽推出全新的MPI TITAN新一代RF探針系列,以專(zhuān)利的探針尖設(shè)計(jì),可提供MEMS接觸點(diǎn)(tip)匹配達(dá)50 Ohm。其高功率機(jī)種可供主被動(dòng)RF高功率元件測(cè)試,在-60至+200的溫度下可提供10 W輸出功率、2A直流電、與250 V 電壓。于單端或雙尖的測(cè)試配置下,支援50 ~ 1250 微米(micron)的探針距離、頻率范圍為26 ~ 110 GHz。MPI TITAN新一代RF探針為晶圓S參數(shù)量測(cè)的首選,亦可應(yīng)用于110 GHz 微波元件與線路測(cè)試。
       MPI晶圓探針臺(tái)系統(tǒng)包含了數(shù)種測(cè)試解決方案機(jī)種- MPI TS50, TS150, TS200 與TS300,分別支援50、150、200與300mm 基體和晶圓的精密分析,適用于錯(cuò)誤分析、設(shè)計(jì)驗(yàn)證與 IC 工程、晶元級(jí)可靠度驗(yàn)證、MEMS、高功率元件與裝置的特性測(cè)試與模擬。

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