全球第三大半導體設備制造商ASML于4月28日表示，已對尼康（Nikon）提出反訴。

ASML解釋該事件的來龍去脈，ASML和Nikon在2004年簽訂了一項專利交叉授權協(xié)議，部分專利已獲永久授權，其他專利的授權日期已于2009年12月31日結束，雙方同意互不采取法律移動的過渡期也在2014年12月31日結束。

ASML總裁暨執(zhí)行長Peter Wennink強調，在過去幾年里， ASML曾多次盡全力試圖與Nikon就交叉授權協(xié)議延展一事進行協(xié)商，但Nikon沒有為此做出任何真正的努力，反而選擇控告ASML專利侵權，公司對此感到失望。

Peter進一步強調，ASML始終相信，雙方能以協(xié)商的方式來解決，對半導體產(chǎn)業(yè)而言是好的，可以推動產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新與合作，更可減少這類讓產(chǎn)業(yè)無法集中精力在真正重要事情上的不必要專利訴訟案件，且Nikon提起的訴訟毫無根據(jù)，這將為整個半導體產(chǎn)業(yè)帶來不確定性。

據(jù)路透社4月24日消息，日本尼康 宣布在荷蘭、德國與日本針對 ASML（艾司摩爾） 和合作伙伴卡爾蔡司 （Carl Zeiss AG）的專利侵權提起訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經(jīng) Nikon 的許可下將其微影 （lithography） 技術專利用于光刻機上，并運用在半導體制造業(yè)中。尼康在訴訟文件中稱，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 對未授權使用專利技術而做出賠償。

尼康曾在半導體設備產(chǎn)業(yè)叱咤一時，是全球第八大半導體設備廠商。據(jù)尼康公布的2017財年第三季度財報（2016年4月1日~12月31日）顯示，營業(yè)利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。

當前，光刻系統(tǒng)被廣泛應用于制造半導體，而 ASML 又主導著半導體光刻機市場。據(jù)評級機構“惠譽評級”（Fitch Ratings）今年1月發(fā)布的調研報告顯示，在高端光刻機市場，ASML 的份額高達90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季財報顯示，第 1 季營收凈利達 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，且預估第 2 季營收凈利在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

尼康曾是日本半導體制造技術的代表廠商，1993 年尼康的半導體曝光設備全球市占率達 48.4%，幾乎在市場稱王。1984 年設立的 ASML，在創(chuàng)建初期遠遠不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率開始快速攀升，最后不僅超越尼康，2015 年全球市占率高達 81%，尼康只剩 12.1%。