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創(chuàng)意沖刺先進制程 5納米設計流程第4季完成驗證

2019-06-05
關鍵詞: IC 芯片 納米制程

  IC設計服務廠創(chuàng)意電子持續(xù)積極沖刺先進制程技術,今年3月完成5納米測試芯片設計定案,預計投入新臺幣10億元開發(fā)5納米制程設計流程,將于第4季完成驗證。

  創(chuàng)意除與策略伙伴臺積電緊密合作,本身也積極投入先進制程與關鍵知識產權開發(fā),滿足市場需求,并期能拉開與競爭對手的距離。

  在耕耘先進制程有成下,創(chuàng)意去年7納米制程業(yè)績大幅成長,營收比重攀高至19%,并于今年3月完成5納米測試芯片設計定案。

  創(chuàng)意內部規(guī)劃,將投入10億元開發(fā)5納米制程設計流程,研發(fā)費用較7納米的3.5億元高出1.85倍,預計今年第4季完成驗證,2021年第1季量產芯片設計定案。

  除5納米制程設計流程開發(fā)外,創(chuàng)意也將持續(xù)優(yōu)化7納米制程,并發(fā)展SerDes與PCIe等高速界面,預估包含10億元開發(fā)5納米制程設計流程,創(chuàng)意δ來2年將投入約45億元研發(fā)費用。


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