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台积电
在六月初，臺積電舉辦了 2021 年技術研討會，涵蓋了其在工藝節(jié)點技術方面的最新發(fā)展，旨在為客戶提高性能和能力并降低成本。在這次活動中，臺積電討論了其在制造中越來越多地使用極紫外 （EUV） 光刻技術，使其能夠縮小到其 3nm 工藝節(jié)點，遠遠超過其競爭對手。臺積電還解決了當前圍繞半導體需求的問題，并宣布正在建設用于先進封裝生產的新工廠。
下面，我們把他們演講的Slide分享如下，讓大家知道這家晶圓代工巨頭的發(fā)展方向。
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