9月17日消息，據(jù)報(bào)道，中芯國際正在測試由上海初創(chuàng)公司宇量昇生產(chǎn)的深紫外線（DUV）光刻機(jī)，正測試的光刻機(jī)采用浸沒式技術(shù)，類似于ASML所采用的技術(shù)。
過去，中芯國際高度依賴從荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML進(jìn)口的DUV，但是近年來由于美國的出口管制，只能獲得較舊設(shè)備。
知情人士透露，中芯國際正在測試一臺28納米的DUV設(shè)備，并利用多重曝光來生產(chǎn)7納米芯片。
據(jù)透露，中芯國際試用的這類設(shè)備也能被推向極限以生產(chǎn)5納米處理器，但良率會(huì)偏低，無法再進(jìn)一步制造更先進(jìn)的產(chǎn)品。
報(bào)道稱，如果能夠量產(chǎn)先進(jìn)的DUV光刻機(jī)，這將是中國大陸突破美國芯片出口管制的重大勝利，不僅能減少對西方技術(shù)的依賴，還能提升先進(jìn)AI處理器的產(chǎn)能。
還有分析師表示：“如果測試成功，這將是中國企業(yè)的重要一步，未來可在此基礎(chǔ)上推進(jìn)更先進(jìn)的設(shè)備。”
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