9月25日消息，據(jù)報(bào)道，Intel正在加碼采購(gòu)ASML的High-NA EUV光刻機(jī)，計(jì)劃購(gòu)買兩臺(tái)相關(guān)設(shè)備，這一數(shù)量較之前計(jì)劃的單臺(tái)設(shè)備翻了一番。

ASML的High-NA EUV光刻機(jī)不僅價(jià)格高昂，更能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更精細(xì)的芯片制造關(guān)鍵，是未來高端芯片制造的關(guān)鍵。

目前，全球僅有少數(shù)幾家公司能夠獲得ASML的High-NA EUV設(shè)備，包括臺(tái)積電、三星、SK海力士和Intel。

Intel的14A工藝計(jì)劃引入高數(shù)值孔徑（High-NA）光刻技術(shù)，這將是Intel代工服務(wù)（IFS）部門的重大里程碑。

14A工藝的成功與否對(duì)Intel的未來發(fā)展至關(guān)重要，因?yàn)槿绻摴に嚐o法獲得客戶的廣泛采用，Intel可能會(huì)放棄對(duì)高端芯片制造節(jié)點(diǎn)的追求。因此，14A工藝可以說是Intel在高端芯片制造領(lǐng)域的“背水一戰(zhàn)”。

據(jù)估算，ASML的單臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)價(jià)格約為3.7億美元，意味著Intel僅在光刻設(shè)備上就可能花費(fèi)10億至20億美元。