《電子技術(shù)應(yīng)用》
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聯(lián)電14nm明年量產(chǎn) 縮短與臺(tái)積差距

2015-06-01

  臺(tái)積電16奈米制程技術(shù)如期于第2季量產(chǎn),聯(lián)電14奈米制程將于2016年量產(chǎn),將拉近與臺(tái)積電的差距。

  晶圓代工先進(jìn)制程技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)激烈,龍頭廠臺(tái)積電在28奈米制程技術(shù)發(fā)展遙遙領(lǐng)先對(duì)手,早在2011年第4季即導(dǎo)入量產(chǎn)。

  反觀聯(lián)電28奈米制程遲至2014年第2季才量產(chǎn),足足落后臺(tái)積電長(zhǎng)達(dá)2年半時(shí)間;讓臺(tái)積電近年得以獨(dú)享龐大28奈米市場(chǎng)商機(jī),市占率持續(xù)擴(kuò)大。

  臺(tái)積電去年20奈米制程量產(chǎn),16奈米制程如期于今年第2季量產(chǎn),預(yù)計(jì)下半年大量出貨。

  為拉近與臺(tái)積電的差距,聯(lián)電與IBM達(dá)成技術(shù)授權(quán),加速14奈米制程研發(fā)時(shí)程,聯(lián)電在年報(bào)中指出,14奈米將于2016年第1季提供客戶試產(chǎn),并將于2016年量產(chǎn)。

  聯(lián)電在14/16奈米制程發(fā)展,落后臺(tái)積電時(shí)間將大幅縮短至1年半左右時(shí)間。

  至于10奈米制程,臺(tái)積電預(yù)計(jì)2016年下半年量產(chǎn),聯(lián)電則將于2018年量產(chǎn),聯(lián)電落后臺(tái)積電時(shí)間是否又將再度拉大,值得觀察。

  聯(lián)電估計(jì),未來(lái)2年投入14奈米及10奈米制程技術(shù)研發(fā)費(fèi)用將達(dá)新臺(tái)幣121億元,將是研發(fā)費(fèi)用投入的重點(diǎn)。


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