全球前6大晶圓代工廠

　　韓國半導體大廠三星電子（Samsung）日昨在上海舉辦技術論壇，對外說明晶圓代工策略，同時宣示鎖定爭取大陸IC設計廠代工訂單。三星指出，預計今年底10奈米可以上線，7奈米制程將采用最先進的極紫外光（EUV）微影技術，并將針對物聯(lián)網及汽車電子提供低功耗的28奈米全耗盡型絕緣層上覆矽（FD-SOI）制程。

　　同時，三星原本只生產自有晶片的8寸晶圓廠，現(xiàn)在也將開放并爭取類比IC或LCD驅動IC等晶圓代工訂單。

　　臺灣晶圓代工廠臺積電、聯(lián)電、力晶等已分別以獨資或合資方式，赴大陸興建晶圓代工廠，三星電子在大陸的最大投資是西安的NAND Flash廠，并沒有在大陸設立晶圓代工廠的計畫。不過，三星選擇在上海舉行技術論壇，說明最新的晶圓代工策略，并宣示將爭取大陸IC設計廠代工訂單。

　　事實上，隨著大陸官方成立的中國國家集成電路產業(yè)發(fā)展基金（大基金）開始擴大投資，大陸半導體生產鏈持續(xù)擴大產能，產值也正在快速擴張，而大陸地區(qū)第二季IC設計業(yè)銷售額已經正式超越臺灣，成為全球第二大IC設計產業(yè)群聚地，這也是為何全球晶圓代工廠都開始鎖定大陸市場的原因。

　　三星的晶圓代工晶圓廠主要有三個據(jù)點，包括位于韓國的8寸晶圓廠S1、位于美國德州的12寸晶圓廠S2、以及位于韓國Hwasung的12寸晶圓廠S3。另外，三星也將與臺積電一樣，提供后段封測服務。而三星預估今年包含晶圓代工的邏輯制程月產能將達13.5～14萬片12寸晶圓及19萬片8寸晶圓，且預估至2017年底產能將擴充約15％。

　　隨著臺積電宣布今年底將量產10奈米制程，2018年開始量產7奈米制程，三星也在技術論壇中說明先進制程布局，包括今年底可望開始進行10奈米投片，但將跳過采用浸潤式微影技術的7奈米，直接推出采用EUV微影技術的7奈米，預計至2018年底EUV技術可在250W光源下每天生產1,500片晶圓。三星認為，7奈米采用EUV可以擁有更好的成本架構，有助于爭取先進制程晶圓代工訂單。

　　三星認為大陸市場在電子錢包、無人機、電動車、自駕車等供應鏈有很好的創(chuàng)新，也將帶來新機會，所以除了支援先進制程，也將在明年第二季開始，提供可支援物聯(lián)網及汽車電子的28奈米FD-SOI制程。同時，三星也將開放8寸廠產能，配合本身在記憶體市場的優(yōu)勢提供65奈米嵌入式快閃記憶體（eFlash）制程，以及70奈米高壓制程，爭取大陸市場類比IC、CMOS影像感測器、LCD驅動IC等代工訂單。