9月10日消息，前不久引發(fā)關(guān)注的臺(tái)積電2nm工藝技術(shù)遭竊取一案已經(jīng)真假，9人涉案，有3人獲罪7-9年不等。

這起案子中最引人關(guān)注的就是日本KEL威力科創(chuàng)也牽涉了進(jìn)來(lái)，被判14年的主犯陳某從臺(tái)積電離職之后加入了這家公司，正是他聯(lián)系臺(tái)積電的前同事拍攝上千張涉及2nm工藝的照片。

不過(guò)威力科創(chuàng)此前表示已開(kāi)除該員工，并撇清與竊密案的關(guān)系，表示經(jīng)該公司內(nèi)部調(diào)查，截至目前未發(fā)現(xiàn)相關(guān)機(jī)密信息外泄至第三方，亦未發(fā)現(xiàn)有組織性地指示該名前員工獲取不當(dāng)信息的行為。

然而這也沒(méi)法完全洗清他們的嫌疑，此前該公司已經(jīng)派高管前去臺(tái)積電負(fù)荊請(qǐng)罪，上月底傳出還會(huì)再派社長(zhǎng)拜會(huì)臺(tái)積電高層，再次請(qǐng)罪。

這兩天借著半導(dǎo)體展會(huì)的機(jī)會(huì)，KEL社長(zhǎng)河合利樹缺席了已公布行程的公開(kāi)活動(dòng)，選擇去新竹拜會(huì)臺(tái)積電CEO魏哲家，兩人私下會(huì)談，內(nèi)容不會(huì)公開(kāi)。

預(yù)計(jì)它會(huì)針對(duì)此前的2nm竊密案親自向臺(tái)積電表達(dá)歉意，并提出善后方案，只是具體的措施沒(méi)有公布。

KEL是全球TOP級(jí)半導(dǎo)體設(shè)備商，臺(tái)積電是其關(guān)鍵客戶之一，兩家合作數(shù)十年，也不太可能因?yàn)榇耸聰嘟^關(guān)系，預(yù)計(jì)還是會(huì)從商業(yè)利益角度做些彌補(bǔ)，采購(gòu)刻蝕設(shè)備打折之類的，畢竟臺(tái)積電的2nm工藝也需要先進(jìn)的刻蝕機(jī)。