12 月 4 日消息,韓媒《文化日報》當?shù)貢r間今日報道稱,SK 海力士在繼續(xù)發(fā)展先進存儲制程的同時也將進入利基型 DRAM 制造領域,豐富業(yè)務范圍。

報道提到,SK 海力士正與一家韓國 Fabless 無晶圓廠半導體設計企業(yè)合作,計劃最早在 2027 年開始生產定制的專用 DRAM 內存,雙方正就具體項目和產能進行交涉。
消息指出,SK 海力士考慮利用設在中國江蘇無錫的晶圓廠制造利基型 DRAM,這有利于保持相對較老的生產線的利用率,同時能降低韓國 Fabless 企業(yè)對力積電等的依賴。

本站內容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉載內容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內容無法一一聯(lián)系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。
