《電子技術(shù)應(yīng)用》
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牽涉2nm技術(shù)竊密案 日本半導(dǎo)體巨頭TEL落選臺(tái)積電優(yōu)秀供應(yīng)商

2025-11-28
來(lái)源:快科技

11月27日消息,作為世界最先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片代工廠,臺(tái)積電的技術(shù)機(jī)密很容易成為別人的目標(biāo),最近的一個(gè)例子是前高管羅唯仁跳槽Intel引發(fā)的,前兩個(gè)月的例子則牽涉日本半導(dǎo)體巨頭。

這家公司就是日本KEL威力科創(chuàng),該公司的一名陳姓員工原本在臺(tái)積電工作,離職后加入TEL,但仍通過(guò)之前的同事關(guān)系獲取了臺(tái)積電大量技術(shù)信息,就有2nm工藝的重要信息,最終觸發(fā)臺(tái)積電監(jiān)控,隨后被抓,8月份宣判。

事發(fā)之后,威力科創(chuàng)已經(jīng)開(kāi)除了這名員工,并且日前再次發(fā)表公告稱經(jīng)該公司內(nèi)部調(diào)查,截至目前未發(fā)現(xiàn)相關(guān)機(jī)密信息外泄至第三方,亦未發(fā)現(xiàn)有組織性地指示該名前員工獲取不當(dāng)信息的行為。

之后傳聞TEL高管、社長(zhǎng)等高層兩次去臺(tái)積電負(fù)荊請(qǐng)罪,然而這件事多少還是影響了他們與臺(tái)積電的關(guān)系,日前臺(tái)積公布了優(yōu)秀供應(yīng)商名單,TEL公司就沒(méi)有位列其中。

臺(tái)積電在日前的供應(yīng)鏈管理論壇上公布的這份名單,主要是表彰合作伙伴在推動(dòng)2nm等先進(jìn)制程與封裝技術(shù)的研發(fā)、優(yōu)化及產(chǎn)能擴(kuò)建工作中的重要作用,并持續(xù)助力臺(tái)積電拓展全球生產(chǎn)布局。

這些企業(yè)名單中,步伐ASML、應(yīng)用材料、KLA、Lam科林等全球半導(dǎo)體巨頭,TEL作為三大蝕刻機(jī)供應(yīng)商之一,之前也不是沒(méi)中選過(guò),但是這次落選顯然不是他們的產(chǎn)品不行,這次的竊密案多少影響了他們的評(píng)價(jià)。

不過(guò)臺(tái)積電也不太可能完全取消與KEL的合作,能夠生產(chǎn)用于2nm及未來(lái)工藝蝕刻機(jī)的廠商并不多,放棄TEL意味著只能選KLA、LAM兩家美國(guó)公司,顯然這也不利于臺(tái)積電與廠商博弈。


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