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三星3nm GAA工藝良率上升至30%至60%

3月25日消息，據(jù)媒體透露，有消息人士稱(chēng)，三星電子的3納米Gate-All-Around（GAA）工藝的良率已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了三倍的提高，從先前的10%至20%上升至30%至60%之間，然而，這仍然落后于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電。 除此之外，臺(tái)積電還宣布今年將3納米晶圓的產(chǎn)量擴(kuò)大到每月約10萬(wàn)片，這使得三星幾乎沒(méi)有趕上代工競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電的機(jī)會(huì)。 報(bào)道指出，三星電子在其第二代3納米GAA工藝上投入了更多精力，并在功耗、性能和邏輯區(qū)域方面進(jìn)行了改進(jìn)。 然而，這并沒(méi)有為三星吸引更多客戶(hù)。一份報(bào)告指出，要重新贏得像高通等先前的客戶(hù)認(rèn)可，三星需要將良率提高到70%。而這些企業(yè)在可預(yù)見(jiàn)的未來(lái)將繼續(xù)選擇臺(tái)積電。 本月初，韓國(guó)媒體報(bào)道稱(chēng)，三星電子已經(jīng)通知客戶(hù)和合作伙伴，自今年年初起，將第二代3納米工藝改名為2納米工藝。 一位業(yè)內(nèi)人士表示：“我們收到了三星電子的通知，他們正在將第二代3納米工藝更名為2納米工藝。去年簽訂的第二代3納米合同也同步轉(zhuǎn)為了2納米，因此我們近期需要重新簽訂合同?！?/a>

發(fā)表于：3/26/2024